北京京邁研材料科技有限公司為您提供二氧化硅靶材sio2磁控濺射靶材,。科研實驗-二氧化硅靶材sio2磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料
產(chǎn)品介紹
二氧化硅sio2常溫下為固體,，不溶于水,，是酸性氧化物，不跟一般酸反應(yīng),，能和熔融堿類起作用,。自然界中存在有結(jié)晶二氧化硅和無定形二氧化硅兩種。結(jié)晶二氧化硅因晶體結(jié)構(gòu)不同，分為石英,、鱗石英和方石英三種,。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃,、水玻璃,、光導(dǎo)纖維、電子工業(yè)的重要部件,、光學(xué)儀器,、工藝品和耐火材料的原料，是科學(xué)研究的重要材料,。
產(chǎn)品參數(shù)
中文名 二氧化硅 化學(xué)式 sio 分子量 60.084
密度 2.2 g/cm3 熔點 1650±50℃ 沸點 2230℃
純度 99.99%
支持靶材定制,，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例重量比或原子比,、規(guī)格,，我們會盡快為您報價！,！
服務(wù)項目：靶材成份比例,、規(guī)格、純度均可按需定制,�,？蒲袉挝回浀礁犊睿�-,，售后-,！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射,、熱蒸發(fā),、電子束蒸發(fā)設(shè)備
控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法gdms或icp光譜法等多種檢測手段,，分析雜質(zhì)元素含量-材料的高純度與細(xì)小晶粒度,；可提供質(zhì)檢報告。
加工流程：熔煉***提純***鍛造***機(jī)加工***檢測***包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差,，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況,，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能,，提高靶材的使用壽命,。我們-建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶,！
我公司采用高純銦作為焊料,，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶,。
注意：高純銦的熔點約為156℃,，靶材工作溫度超過熔點會導(dǎo)致銦熔化,！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材,、燒結(jié)靶材,，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3w/cm2,。

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