成都超邁光電科技有限公司為您提供成都超邁cjc系列磁控濺射鍍膜機(jī)共濺射直流射頻兼容粉末或顆粒上沉積薄膜,。

●該設(shè)備用于納米級單層或多層膜、類金剛石薄膜,、金屬膜,、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜和非導(dǎo)電膜等功能薄膜的制備,，可實(shí)現(xiàn)共濺射,，直流、射頻兼容,，適于科研院所和企業(yè)進(jìn)行功能薄膜研發(fā),、教學(xué)和新產(chǎn)品開發(fā)，同時(shí)可在微米級粉末或顆粒上沉積薄膜進(jìn)而達(dá)到表面改性的功能,。建議選用公research系列磁控濺射平臺,。

●主體結(jié)構(gòu)：全封閉框架結(jié)構(gòu),，機(jī)柜和主機(jī)為分體式機(jī)構(gòu)。
●-真空度：≤６.６３×10－5pa,，壓升率優(yōu)于-,。
●真空配置：高速直聯(lián)旋片泵一臺，配置尾氣處理裝置,，分子泵一臺,。
●真空測量：兩路電阻規(guī)，一路電離規(guī),；電阻規(guī)和電離規(guī)均采用防爆型金屬封結(jié)真空規(guī),。
●工件架系統(tǒng)：行星工件盤與公轉(zhuǎn)工件盤可選，垂直濺射與共濺射兼容,，可配置１個(gè)加熱臺,，采用pid控制可烘烤加熱到700℃。
●磁控濺射系統(tǒng)：配置３個(gè)φ50mm可折疊磁控靶可擴(kuò)展至4靶機(jī)構(gòu),，向上濺射成膜,；靶基距可調(diào)；靶內(nèi)均通入冷卻水冷卻,。
●電源 ：2套直流電源,；1套全固態(tài)射頻電源；一套200w直流偏壓電源,。
●充氣系統(tǒng)：配置三路供氣,，二路分別配置流量控制器，線性±0.5 % f.s,，重復(fù)精度±0.2% f.s,，0-5v輸出，在觸摸屏上設(shè)置流量,。
●電氣控制系統(tǒng)：采用功能化模塊設(shè)計(jì),，匹配西門子人機(jī)界面+西門子控制單元，濺射時(shí)間可以設(shè)定并-,，能夠根據(jù)工藝需求自動(dòng)濺射,。

●-說明：根據(jù)用戶不同的工況和工藝要求，公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā),，共享-,，公司致力于工藝與設(shè)備的-匹配，該設(shè)備為公司與電子科技大-合研發(fā),。

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