成都超邁光電科技有限公司為您提供成都超邁research-磁控濺射鍍膜機共濺射直流射頻兼容磁控濺射系統(tǒng)可定制生產,。

●該設備用于納米級單層或多層膜,、類金剛石薄膜、金屬膜,、導電膜、半導體膜和非導電膜等功能薄膜的制備,，可實現共濺射,，直流、射頻兼容,，-適于科研院所和企業(yè)進行功能薄膜研發(fā),、教學和新產品開發(fā)，同時可在微米級粉末或顆粒上沉積薄膜進而達到表面改性的功能,。是替代鐘罩式磁控濺射的理想選擇,。
●主體結構：全封閉框架結構，機柜和主機為一體式機構,。
●-真空度：≤６.６３×10－5pa,，壓升率優(yōu)于-。
●真空配置：高速直聯旋片泵一臺,，配置尾氣處理裝置,，分子泵一臺。
●真空測量：兩路電阻規(guī),，一路電離規(guī),；電阻規(guī)和電離規(guī)均采用防爆型金屬封結真空規(guī)。
●工件架系統(tǒng)：行星工件盤與公轉工件盤可選,，垂直濺射與共濺射兼容,，可配置１個加熱臺，采用pid控制可烘烤加熱到700℃,。
●磁控濺射系統(tǒng)：配置３個φ50mm可折疊磁控靶可擴展至4靶機構,，向上濺射成膜；靶基距可調,；靶內均通入冷卻水冷卻,。
●電源：2套直流電源；1套全固態(tài)射頻電源,；一套200w直流偏壓電源,。
●充氣系統(tǒng)：配置三路供氣，二路分別配置流量控制器,，線性±0.5 % f.s,，重復精度±0.2% f.s，0-5v輸出，在觸摸屏上設置流量,。
●電氣控制系統(tǒng)：采用功能化模塊設計,，匹配西門子人機界面+西門子控制單元，濺射時間可以設定并-,，能夠根據工藝需求自動濺射,。
●-說明：根據用戶不同的工況和工藝要求，公司愿與客戶聯合研發(fā),，共享-,，公司致力于工藝與設備的-匹配，該設備為公司與電子科技大-合研發(fā),。

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