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產(chǎn)品用途：
產(chǎn)品性：
pecvd系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,，在局部形成等離子體,，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),，很容易發(fā)生反應(yīng),，在基片上沉積出所期望的薄膜,。

產(chǎn)品組成：
pecvd系統(tǒng)配置：
1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)可選配中真空或高真空
產(chǎn)品特點(diǎn)：
生長(zhǎng)溫度低,；沉積速率快,；成膜---，適用范圍廣,，設(shè)備簡(jiǎn)單。





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