清洗液的物理化學(xué)性質(zhì)對(duì)清洗效果的影響
清洗液的靜壓力大時(shí),，不容易產(chǎn)生空化,，所以在密閉加壓容器中進(jìn)行超聲清洗或處理時(shí)效果較差
清洗劑的選擇要從兩個(gè)方面來(lái)考慮：一方面要從污物的性質(zhì)來(lái)選擇化學(xué)作用效果好的清洗劑,；另一方面要選擇表面張力、蒸氣壓及粘度合適的清洗劑,，因?yàn)檫@些特性與超聲空化強(qiáng)弱有關(guān),。液體的表面張力大則不容易產(chǎn)生空化，但是當(dāng)聲強(qiáng)超過(guò)空化閾值時(shí),，空化泡崩潰釋放的能量也大,，有利于清洗；高蒸氣壓的液體會(huì)降低空化強(qiáng)度,，而液體的粘滯度大也不容易產(chǎn)生空化，因此蒸氣壓高和粘度大的潔洗劑都不利于超聲清洗。
此外,，清洗液的溫度和靜壓力都對(duì)清洗效果有影響,，清洗液溫度升高時(shí)空化核增加，對(duì)空化的產(chǎn)生有利,，但是溫度過(guò)高,，氣泡中的蒸氣壓增大，空化強(qiáng)度會(huì)降低,，所以溫度的選擇要同時(shí)考慮對(duì)空化強(qiáng)度的影響,，也耍考慮清洗液的化學(xué)清洗作用每一種液體都有一空化活躍的溫度,，水較適宜的溫度是60-80℃,，此時(shí)空化活躍。
硅片清洗 化學(xué)清洗
化學(xué)清洗是為了除去原子,、離子不可見(jiàn)的污染,方法較多,有溶劑萃取,、酸洗---、·王水,、各種混合酸等和等離子體法等,。其中體系清洗方法效果好，環(huán)境污染小,。一般方法是將硅片先用成分比為h2so4:h2o2=5:1或4:1的酸性液清洗,。清洗液的強(qiáng)氧化性,將有機(jī)物分解而除去；用超純水沖洗后,再用成分比為h2o:h2o2:nh4oh=5:2:1或5:1:1或7:2:1的堿性清洗液清洗,由于h2o2的氧化作用和nh4oh的絡(luò)合作用,，許---屬離子形成穩(wěn)定的可溶性絡(luò)合物而溶于水,；然后使用成分比為h2o:h2o2:hcl=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于h2o2的氧化作用和---的溶解,，以及氯離子的絡(luò)合性,，許---屬生成溶于水的絡(luò)離子，從而達(dá)到清洗的目的,。
按照刻蝕工藝劃分,，其主要分為干法刻蝕以及濕法刻蝕。干法刻蝕占------,。干法刻蝕主要利用反應(yīng)氣體與等離子體進(jìn)行刻蝕,，利用等離子體與表面薄膜反應(yīng)，形成揮發(fā)性物質(zhì),，或者直接轟擊薄膜表面市值被腐蝕的工藝,。干法刻蝕的優(yōu)勢(shì)在于能夠?qū)崿F(xiàn)各向---刻蝕，即刻蝕時(shí)可控制僅垂直方向的材料被刻蝕,，而不影響橫向材料,，從而---細(xì)小圖形轉(zhuǎn)移后的保真性,。因此在小尺寸的---工藝中，已經(jīng)基本采用干法刻蝕工藝,。濕法刻蝕工藝主要是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進(jìn)行腐蝕,，該刻蝕方---導(dǎo)致材料的橫向縱向同時(shí)腐蝕，會(huì)導(dǎo)致一定的線寬損失,。
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