氮化鋁真空鍍膜mems真空鍍膜加工平臺(tái)——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,,主要-半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,,-重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,江蘇氮化鋁真空鍍膜,,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要,氮化鋁真空鍍膜平臺(tái),,從事電子信息,、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā),。
濺射靶材作為一種大型的鍍膜原料,其靶材的形狀,、純度,、密度、孔隙率,、晶粒尺寸,、結(jié)合等特性對(duì)薄膜和濺射率有很大影響。在這里,,我們解釋了濺射靶材的相對(duì)密度和間隙對(duì)大面積涂層的影響,。
靶材相對(duì)密度對(duì)大面積鍍膜的影響
靶材的相對(duì)密度是靶材的實(shí)際密度與理論密度之比。單組分靶的理論密度為晶體密度,。合金或混合物靶材的理論密度由各組分的理論密度及其在合金或混合物中的比例計(jì)算得出,。熱噴涂的靶材結(jié)構(gòu)疏松多孔,含氧量高即使在真空噴涂中,,也很難避免合金靶材中氧化物和氮化物的產(chǎn)生,。表面呈灰色,缺乏金屬光澤,。吸附的雜質(zhì)和水分是主要污染源,,阻礙了高真空的快速獲得,,在濺射過程中迅速導(dǎo)致放電,甚至燒毀靶材,。
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真空鍍膜冷水機(jī)的工作原理:
制冷循環(huán)采用逆卡若循環(huán),,該循環(huán)由兩個(gè)等溫過程和兩個(gè)絕熱過程組成;其過程如下:
1等溫過程--液體吸熱氣化形成蒸汽的傳熱與液體汽化潛熱的傳遞平衡關(guān)系式為 q=kt 式中 k--常數(shù) ,,稱為亨利定律,; t --時(shí)間 。
2絕熱壓縮過程--利用蒸氣壓縮來實(shí)現(xiàn)制冷循環(huán)的兩個(gè)不同溫度的中間介質(zhì)的換熱遵循可逆卡諾爾公式 c =-lgr22+h22 式中 r22 --中間介質(zhì)的平均溫度 °c ,, h22 --中間介質(zhì)的溫度 °c ,。
當(dāng) r 22 -1 時(shí)稱做階段或低溫區(qū) ;當(dāng) r 22-2 時(shí)稱做第二階段或高溫區(qū),;兩者之差即代表該階段的溫差或稱焓值,;此溫差的大小取決于兩相物質(zhì)的性質(zhì)及其比容的變化情況而定。
3再加熱的過程--把經(jīng)過絕熱的低溫區(qū)的工質(zhì)重新吸入到高溫區(qū)內(nèi)實(shí)現(xiàn)再加熱的過程稱為回?zé)峄蚰婵ㄈ粞h(huán),。
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真空鍍膜是一種將待鍍材料和被鍍基材放置于真空室內(nèi),,采用一定方法加熱待鍍材料,,使之蒸發(fā)或升華并飛濺到被鍍基材表面凝聚成膜的表面處理工藝,如圖所示,。
真空鍍膜工藝可使塑料表-有金屬-,,并賦予一定的導(dǎo)電性能,氮化鋁真空鍍膜公司,,其基材選擇廣泛,,過程-,,顏色相較電鍍豐富。此工藝可分為三種類型:蒸發(fā)鍍膜,、濺射鍍膜和離子鍍,。
真空鍍膜原理圖
在內(nèi)外飾系統(tǒng)中,榮威標(biāo)牌嵌件是采用真空鍍膜的典型零件,。通過標(biāo)牌嵌件背面鍍的銀色鋁膜與淡黃色pmma基材共同形成了的金色獅子華表圖案,。榮威標(biāo)牌嵌件采用的是真空鍍膜工藝中的濺射鍍膜。真空鍍膜典型零件及鍍膜機(jī)實(shí)物圖如圖所示,。
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