duv/euv光刻

光刻技術是用激光將圖案等燒成技術,，用于半導體或液晶面板的基板制造

被使用,，那個uv照射被使用的是duv：波長200nm左右的紫外線,。

用密的東西能蝕刻數(shù)十nm～百數(shù)十nm左右的圖形。

另外,，作為下一代的有希望的技術,，被稱為extreme ultraviolet簡稱euv的13.5nm等

使用波長極短的“超紫外線”的光刻也有被稱為極紫外光光刻：extremeultraviolet lithography:euvl的情況中，duv遠紫外線光刻的

因為使用了20分之1左右波長的光線,，所以可以使圖案微細,。

＊裝載這樣精密電路的底座的清洗，用以往的濕式清洗是來不及的

同時使用uv光清洗,。

1.業(yè)界,！新構思的裝置內(nèi)設置單元

照射頭·散熱片·控制器成為一體的裝置內(nèi)設置的照射單元，根據(jù)來自定序器的信號控制,。散熱片上設有安裝孔,，可簡單安裝機器人機械臂、機箱等,。

2.高功率照射

照射4000mw/?以上***1,、7000mw/?以上***210000mw/?以上高功率紫外線365nm輸出。

因為在獨自開發(fā)的角型散熱片上設置了led,，所以散熱效率-,，即使是30分鐘的全功率點燈，uv輸出也

幾乎不衰減,。

3.低運行成本

使用led的壽命,，假設連續(xù)點亮的估計時間為30000小時。與傳統(tǒng)的燈方式相比,，m-1a物鏡鏡筒,，是7.5倍以上。同時,，燈方式需要連續(xù)點燈,，不過，led的情況,，成為實際的點燈時間,，zl-90物鏡鏡筒，根據(jù)點燈頻度更長壽命,，能大幅度削減運行成本,。

4.的散熱結(jié)構的照射頭

由于獨自開發(fā)的無基板構造和鋁縱型散熱片的使用，散熱效果-,，所以即使在100%的照射功率下使用30分鐘以上,，照射強度也幾乎沒有變化�,？梢赃M行非常穩(wěn)定的照射,。

5.外部序列發(fā)生器控制的簡單功能

作為外部定序器控制類型,，裝備了低限度的功能。

功能列表

●照射功率選擇：音量設定/外部0～5v模擬設定

●外部照射輸入/停止輸入

●照射中輸出

6.低成本

通過的設計理念和簡化,，實現(xiàn)了低成本,。

*照射波長除365nm外，還可制作385nm,。

***1ulel-4聚光直徑φ4mm使用透鏡時的中心強度,。100%光量點亮時

***2ulel-3聚光直徑φ3mm使用鏡頭時的中心強度100%光量點亮時