在潔凈室清洗潔凈工作服過程中應注意的事項如下:
1.新縫制的潔凈工作服可直接進行洗滌,而回收穿過的潔凈工作服發(fā)現(xiàn)油污,應仔細去除油污再進行洗滌程序,。
2.洗滌前要對擦破、損壞及搭扣等附屬品進行檢查,,對有缺陷的要修理,、更換或報廢。
3.必須在比使用工作服的潔凈室的潔凈度高的潔凈室中進行清洗,、烘干,、捆包。
4.濕式,、干式清洗用的水要過濾,,溶劑也要蒸餾之后在使用點上用小于0.2μm孔徑的濾膜,根據(jù)需要進行一次以上的過濾,。
5.為了除去水溶性污染物,,凈化空調安裝,用清水洗滌后,,再用蒸餾過的溶劑進行后的洗滌,,除去油性污染物。
6.濕式洗滌用水溫度如下:聚酯布 60-70c 蕞高70c. 尼龍布 50-55c 蕞高60c.
7.在后漂洗透水時,,可以用抗靜電劑以提高抗靜電特性,,但選用的抗靜電劑應與纖維結合-,無粉塵脫落,。
8.有搭扣的工作服,,應在扣合狀態(tài)下洗滌。凈化車間
9.在洗滌的潔凈空氣循環(huán)系統(tǒng)中進行干燥,。
潔凈室中的溫濕度控制:
潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定,,但在滿足工藝要求的條件下,,應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高,,出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢,。
具體工藝對溫度的要求以后還要列舉,但作為總的原則看,,由于加工精度越來越精細,,所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在-集成電路生產(chǎn)的光刻-工藝中,,凈化空調設計,,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片,,溫度上升1度,,就引起了0.24um線性膨脹,,所以必須有±0.1度的恒溫,同時要求濕度值一般較低,,因為人出汗以后,,對產(chǎn)品將有污染,-是怕鈉的半導體車間,,這種車間不宜超過25度,。
濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時,,冷卻水管壁上會結露,,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,就會引起各種事故,。相對濕度在50%時易生銹,。此外,懷化凈化空調,,濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除,。相對濕度越高,粘附的難去掉,,但當相對濕度低于30%時,又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,,同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿,。對于硅片生產(chǎn)蕞佳溫度范圍為35—45%。
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