江蘇一六儀器 x熒光光譜測(cè)厚儀 涂鍍層測(cè)厚
應(yīng)用領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于線路板、引線框架及電子元器件接插件檢測(cè),、鍍純金,、k金、鉑,、銀等各種飾品的膜層成分和厚度分析,、手表、精密儀表制造行業(yè),、
---鐵硼磁鐵上的ni/cu/ni/fendb,、汽車、五金,、電子產(chǎn)品等緊固件的表面處理檢測(cè),、衛(wèi)浴產(chǎn)品、裝飾把手上的cr/ni/cu/cuzn(abs),、電鍍液的金屬陽離子檢測(cè),。
江蘇一六儀器 x熒光光譜測(cè)厚儀
下照式設(shè)計(jì):可以快速方便地定位對(duì)焦樣品。
無損變焦檢測(cè):可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行無損檢測(cè),,鍍層測(cè)厚儀,,凹槽-范圍0-90mm。
微-射線裝置:可檢測(cè)面積小于0.002mm2的樣品,,可測(cè)試各微小的部件,。
接收:即使測(cè)試0.01mm2以下的樣品,測(cè)厚儀,,幾秒鐘也能達(dá)到穩(wěn)定性,。
精密微型滑軌:快速-定位樣品。
efp-算法軟件:多層多元素,,甚至有同種元素在不同層也難不倒efp算法軟件,。
一六儀器 測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,-efp算法 x射線熒光鍍層測(cè)厚儀
應(yīng)用于電子元器件,,led和照明,,家用電器,通訊,,汽車電子領(lǐng)域.efp算法結(jié)合-定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題
薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1~104的原子層或分子層,。在此方向上,,薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。
理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離,。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的,,其他的兩維方向具有宏觀大小。所以,,表示薄膜的形狀,,一定要用宏觀方法,即采用長,、寬,、厚的方法。因此,,膜厚既是一個(gè)宏觀概念,,又是微觀上的實(shí)體線度。
由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的,,而且薄膜內(nèi)部還可能存在著---,、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等,,所以,,要嚴(yán)格地定義和測(cè)量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測(cè)量的方法和目的來決定,。
-模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個(gè)抽象的幾何概念,,而是由剛性球的原子分子緊密排列而成,油漆測(cè)厚儀,,是實(shí)際存在的一個(gè)物理概念,。
形狀膜厚:dt是接近于直觀形式的膜厚,漆膜測(cè)厚儀,,通常以u(píng)m為單位,。dt只與表面原子分子有關(guān),并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響,;
膜厚:dm反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少,,通常以μg/cm2為單位,它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響如缺陷,、---,、變形等;
物性膜厚:dp在實(shí)際使用上較有用,,而且比較容易測(cè)量,它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無直接關(guān)系,,主要取決于薄膜的性質(zhì)如電阻率,、透射率等,。
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