磁力拋光機的拋-率低解決這個矛盾的的辦法就是把拋光分為兩個階段進行,。

粗拋目的是去除磨光損傷層,，這一階段應(yīng)具有較大的拋-率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,，不過也應(yīng)當(dāng)盡可能�,。黄浯问蔷珤�(或稱終拋),，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,，使拋光損傷減到。磁力拋光機拋光時,，試樣磨面與拋光盤應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕,。

同時,，還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度,。濕度太---減弱拋光的磨痕作用,，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時,，由于摩擦生熱會使試樣升溫,，潤滑作用減小，磨面失去光澤,，甚至出現(xiàn)黑斑,，輕合金則會拋傷表面。

當(dāng)然,，我們?yōu)榱诉_到粗拋的目的,，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，不要超過600r/min,；拋光時間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時間長些,，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑,，但黯淡無光,，在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除,。

在磁力拋光機技術(shù)層面,，電力電子技術(shù)的未來發(fā)展方向主要有以下幾個方面。

       1化,。電力電子裝置是連接能源源端和負荷端的中間處理環(huán)節(jié),，這需要在功率變換過程中，磁力拋光機多少錢,，利用的電力電子器件,、優(yōu)化的功率變換技術(shù)和自適應(yīng)的控制技術(shù)盡可能地提高功率變換的效率，減少能源損耗,，降低成本,。高頻化。為進一步提高功率變換器功率密度,、誠小體積,，高頻、頻技術(shù)是主要的研究方向,，其對器件,、拓撲、驅(qū)動及控制都提出了更高的要求,。硅基電力電子器件本身發(fā)展空間有限,，sic和gan寬禁帶電力電子器件將在多領(lǐng)域獲得應(yīng)用,，但是其材料和工藝上還有很多問題需要解決.

       2集成化。集成化不再局限于磁力拋光機器件,，更多地拓展到一個功能塊,，將個功能塊甚至整個系統(tǒng)的硬件都以集成電路的形式封裝在一個模塊中，從而進一步減小體積,，減輕重量,，磁力拋光機廠家，方便設(shè)計,、制造,，并有效拓展傳統(tǒng)技術(shù)在高頻、頻應(yīng)用中的---范圍,。

       3數(shù)字化,。數(shù)字控制是現(xiàn)代磁力拋光機技術(shù)的重要標(biāo)志為滿足需求多樣、調(diào)試方便,、安全維護等需求,，以數(shù)字控制器為---的智能化管理控制應(yīng)用范圍不斷拓寬。