：靶面金屬化合物的形成,。
由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中,，化合物是在哪里形成的呢,？由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子，通常是放熱反應(yīng),，反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑,，否則,，該化學(xué)反應(yīng)無法繼續(xù)進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導(dǎo),，所以,，化學(xué)反應(yīng)必須在一個固體表面進行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面,、基片表面,、和其他結(jié)構(gòu)表面進行。
第二：靶中毒的影響因素
影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,，反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中毒,。反應(yīng)濺射工藝進行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,，化合物覆蓋面積增加,。在一定功率的情況下，參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加,，化合物生成率增加,。如果反應(yīng)氣體量增加過度，化合物覆蓋面積增加,，塑膠件真空電鍍供應(yīng),，如果不能及時調(diào)整反應(yīng)氣體流量，化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制,，濺射溝道將進一步被化合物覆蓋,，當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時候，靶完全中毒,，三明塑膠件真空電鍍，在靶面上沉積一層化合金屬膜,。使其很難被再次反應(yīng),。
電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質(zhì)或尺寸,。電鍍能增強金屬的抗腐蝕性鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬,、增加硬度、防止磨耗,、提高導(dǎo)電性,、潤滑性、耐熱性,、和表面美觀,。
利用電解作用在機械制品上沉積出附著-的、但性能和基體材料不同的金屬覆層的技術(shù),。電鍍層比熱浸層均勻,，一般都較薄,，塑膠件真空電鍍價格，從幾個微米到幾十微米不等,。
通過電鍍,，可以在機械制品上獲得裝飾保護性和各種功能性的表面層，還可以修復(fù)磨損和加工失誤的工件,。鍍層大多是單一金屬或合金,，如鋅、鎘,、金或黃銅,、青銅等；也有彌散層,，塑膠件真空電鍍,，如鎳-碳化硅、鎳----石墨等,；還有覆合層,，如鋼上的銅-鎳-鉻層、鋼上的銀-銦層等,。電鍍的基體材料除鐵基的鑄鐵,、鋼和不銹鋼外，還有非鐵金屬,，如abs塑料,、聚砜和酚醛塑料，但塑料電鍍前,，必須經(jīng)過特殊的活化和敏化處理,。
真空電鍍的應(yīng)用領(lǐng)域
真空電鍍技術(shù)在裝飾品方面的應(yīng)用：隨著經(jīng)濟的發(fā)展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼,、表帶,、服飾、燈飾,、眼鏡架,、室內(nèi)外裝飾件、五金箱包,、手機殼,、手機視屏、衛(wèi)生潔具,、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛,。
真空電鍍技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用：真空電鍍所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且?guī)缀跛蓄愋偷钠桨屣@示器件都需要使用ito膜,，真空電鍍以滿足透明電器的要求,�,？梢院敛�---的說：沒有薄膜技術(shù)就沒有平板顯示器件。
真空電鍍技術(shù)在太陽能利用方面的應(yīng)用：當(dāng)需要有效地利用太陽熱能時,，真空電鍍就要考慮采用對太陽光線吸收較多,、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20?m之間的紅外波段,。真空電鍍理想的選擇吸收面是太陽輻射光譜的波段(可見光波段)吸收率(α)為1,，真空電鍍在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。
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