80plus-pecvd等離子設(shè)備性能特點(diǎn)
英國(guó)牛津 等離子設(shè)備- plaalab 80plus系列產(chǎn)品介紹
plaalab 80plus是我公司專(zhuān)門(mén)為大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的小型化產(chǎn)品,被廣泛的應(yīng)用于各種產(chǎn)品的研發(fā)以及小批量,。它配置了直接開(kāi)啟式工藝平臺(tái),,可以根據(jù)客戶(hù)需要將它配置成rie反應(yīng)離子刻蝕、pe等離子刻蝕,、pecvd等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積或icp感應(yīng)耦合等離子高密度刻蝕等模式,,應(yīng)用非常靈活。
plaalab 800plus系列 - pecvd等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積配置產(chǎn)品介紹
典型應(yīng)用:
- 大批量,、高sio2, sinx 薄膜的生長(zhǎng)
- nh3 free sinx不含h的sinx薄膜的生長(zhǎng)
pecvd等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積配置主要配置:
- 硬件和工藝全程自動(dòng)化控制的基于windows nt的pc2000控制軟件,,全部硬件和工藝均由計(jì)算機(jī)來(lái)控制,操作非常簡(jiǎn)便
- pecvd大型工藝真空腔
- 460mm直徑可加熱到400℃或700℃的下電極,,充分滿(mǎn)足了大批量的需要
- 13.56mhz,,600w的射頻電源以及緊耦合、低損耗的自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)(close-coupled automatic m---hing network),,-了工藝的重復(fù)性
- 控制工藝氣體流量及配比的外部gas pod,,多可配置6路氣體管路,大大節(jié)約了凈化間的面積
- 反應(yīng)室真空壓力自動(dòng)控制系統(tǒng)apc cm gauge,,-工藝過(guò)程壓力的穩(wěn)定
- 大抽速防腐蝕機(jī)械泵和羅茲泵泵組,,可以快速的達(dá)到工藝試驗(yàn)所需的真空環(huán)境
pecvd等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積配置選配件:
- 雙頻控制系統(tǒng),大-低薄膜的應(yīng)力
- 光發(fā)射optical emission終點(diǎn)控制,,使真空腔的日常維護(hù)變得更為簡(jiǎn)單
- icp-cvd配置,,可以在低壓力下生長(zhǎng)薄膜,從而降低對(duì)器件的損傷
- 干泵配置令設(shè)備維護(hù)更為簡(jiǎn)單
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