如果真空鍍膜設(shè)備持續(xù)不斷的使用了6個月以上,，新北鍍膜設(shè)備，真空鍍膜設(shè)備的抽速就會有明顯的變慢,，鍍膜設(shè)備廠,，那怎樣去維護(hù)呢？本文主要講訴了對真空鍍膜設(shè)備長時間運(yùn)行后的要點(diǎn),。

首先,，必須要沖入---，拆去連接水管,，將一級噴嘴擰出來,，再用將泵腔以及泵膽清洗一下，再使用洗衣粉兌清水再清洗一次,，待水份揮發(fā)干后,，裝好泵膽，重新加入新擴(kuò)散的泵油并裝回機(jī)體重新開機(jī),。真鍍膜設(shè)備在重新開機(jī)時要---注意撿漏工作,，先觀察擴(kuò)散泵部分是否達(dá)到6*10pa，否則需要進(jìn)行檢漏,。檢查連接處是否密封,，或壓壞密封圈。排除漏氣---后才可以加熱,，否則擴(kuò)散泵油會燒壞導(dǎo)致無法進(jìn)入到工作狀態(tài),。

真空納米鍍膜機(jī)設(shè)備的主要用途

(1)各種功能性薄膜：如具有吸收、透射,、反射,、折射、偏光等作用的薄膜,。例如,，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率,。

(2)裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用,，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機(jī)外殼,，刀具鍍膜設(shè)備,，鼠標(biāo)等。

(3) 在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù),，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積(cvd)或金屬有機(jī)

(4)化學(xué)氣相沉積(mocvd)生長困難及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜,。

磁控濺射除上述已被大量應(yīng)用的領(lǐng)域,，還在高溫超導(dǎo)薄膜,、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜,、薄膜發(fā)光材料,、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用,。