pvd鍍膜膜層的特點(diǎn),采用pvd鍍膜技術(shù)鍍出的膜層,，具有高硬度,、高耐磨性(低摩擦系數(shù)),、---的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn),，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能,。pvd鍍膜能夠鍍出的膜層種類,pvd鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的型表面處理方法,，它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁,、鈦,、---,、鉻等),氮化物膜(tin、zrn,、crn,、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),以及氧化物膜(如tio等),。pvd鍍膜膜層的厚度—pvd鍍膜膜層的厚度為微米級,，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm,，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm,，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工,。
真空鍍膜機(jī)廠家為你介紹真空鍍膜技術(shù)在手機(jī)上的應(yīng)用
現(xiàn)在基本上每人都配置一部手機(jī)了,，但使用手機(jī)不可避免的會發(fā)生輻射。手機(jī)輻射會引發(fā),、,，還能影響少年兒童的生長發(fā)育，---的甚至?xí)l(fā),。如何減輕手機(jī)輻射對人體健康的影響,，已成為擺在我們面前的一個急需解決的問題。
真空鍍膜技術(shù),，目前可以較好地解決這個難題,。它是在原子水平上進(jìn)行材料生成的技術(shù)，屬于納米材料的范疇,。通過---機(jī)殼內(nèi)壁真空鍍電磁防護(hù)膜層,，可以大地防止因電磁波輻射而---機(jī)使用者造成的危害,。
真空鍍膜技術(shù)在手機(jī)上的應(yīng)用，不僅推動了手機(jī)制造業(yè)的發(fā)展,，也推動了相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,。有電磁輻射的產(chǎn)品都可以應(yīng)用這項技術(shù)進(jìn)行電磁屏蔽，好的保護(hù)了人們的健康,。
無油真空西永是使用分子泵和低溫泵作為主泵的,，其特點(diǎn)主要集中在能夠連續(xù)大量抽氣，可以獲得清潔無油的真空,。并且該系統(tǒng)啟動時間快,，停泵時間短。但是該系統(tǒng)抽重氣體比抽輕氣體快,，對水蒸氣類型的的抽速比較慢,，當(dāng)氣體大量經(jīng)過泵的時候，抽速就會下降的很快,。這兩種真空鍍膜設(shè)備各有各的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn),，使用者應(yīng)該考慮自己的需求來進(jìn)行選購。
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