在今天，討論化學(xué)氣相沉積與物---相沉積的不同點(diǎn),，玻璃納米鍍膜設(shè)備,，恐怕只剩下用于鍍膜物料形態(tài)的區(qū)別，手機(jī)納米鍍膜設(shè)備,，前者是利用易揮發(fā)性化合物或氣態(tài)物質(zhì),，而后者則利用固相(或液相)物質(zhì)。這種區(qū)分似乎已失去原來定義的內(nèi)涵實(shí)質(zhì),。

我們?nèi)匀话凑找延械牧?xí)慣,，主要以上述鍍料形態(tài)的區(qū)別來區(qū)分化學(xué)氣相沉積和物---相沉積，把固態(tài)(液態(tài))鍍料通過高溫蒸發(fā),、濺射,、電子束、等離子體,、離子束,、激光束、電弧等能量形式產(chǎn)生氣相原子,、分子,、離子(氣態(tài)，等離子態(tài))進(jìn)行輸運(yùn),，在固態(tài)表面上沉積凝聚(包括與其他反應(yīng)氣相物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成反應(yīng)產(chǎn)物),，生成固相薄膜的過程稱為物---相沉積。

化學(xué)氣相沉積chemical vapor deition,，簡稱cvd,，也即化學(xué)氣相鍍或熱化學(xué)鍍或熱解鍍或燃?xì)忮�,，臺(tái)灣納米鍍膜設(shè)備，屬于一種薄膜技術(shù),。常見的化學(xué)氣相沉積工藝包括常壓化學(xué)氣相沉積npcvd,，低壓化學(xué)氣相沉積lpcvd，---壓下化學(xué)氣相沉積apcvd,。

鍍膜機(jī)工藝在平板顯現(xiàn)器中的運(yùn)用一切各類平板顯現(xiàn)器都要用到各品種型的薄膜,，并且---一切類型的平板顯現(xiàn)器材都需求運(yùn)用ito膜，以滿意通明電器的請求,。能夠毫不---的說：沒有薄膜技能就沒有平板顯現(xiàn)器材。