蒸發(fā)鍍膜：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜,。這種方法較早由m.法拉第于1857年提出,，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一,。

蒸發(fā)物質(zhì)如金屬,、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件,，如金屬,、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方,。待系統(tǒng)抽-真空后,，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面,。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米,。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間或決定于裝料量，并與源和基片的距離有關(guān),。