若將反應(yīng)氣體導(dǎo)入蒸發(fā)空間,，汽車(chē)配件真空鍍膜設(shè)備,，便可在工件表面沉積金屬化合物涂層，這就是反應(yīng)性離子鍍,。由于采用等離子活化,，工件只需在較低溫度甚至在室溫下進(jìn)行鍍膜，真空鍍膜設(shè)備，完全---零件的尺寸精度和表面粗糙度,，因此,，可以安排在工件淬火、回火后即后一道工序進(jìn)行,。如沉積tin或tic時(shí),，飾品真空鍍膜設(shè)備，基體溫度可以在150-600℃范圍內(nèi)選擇,，溫度高時(shí)涂層的硬度高，與基體的結(jié)合力也高,�,；w溫度可根據(jù)基體材料及其回火溫度選擇，如基體為高速鋼,，可選擇560℃,，這樣，對(duì)于經(jīng)淬火,、回火并加工到尺寸的模具加工,，無(wú)需---基體硬度降低及變形問(wèn)題。另外,，離子鍍的沉積速度較其他氣相沉積方法快,，得到10mm厚的tic或tin涂層，電子真空鍍膜設(shè)備,，一般只需要幾十分鐘,。
由于粒子間的碰撞，產(chǎn)生劇烈的氣體電離,，使反應(yīng)氣體受到活化,。同時(shí)發(fā)生陰極濺射效應(yīng)，為沉積薄膜提供了清潔的活性高的表面,。因而整個(gè)沉積過(guò)程與僅有熱的過(guò)程有明顯不同,。這兩方面的作用，在進(jìn)步涂層結(jié)協(xié)力,，降低沉積溫度,，加快反應(yīng)速度諸方面都創(chuàng)造了有利條件。
等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)按等離子體能量源方式劃分,，有直流輝光放電,、射頻放電和微波等離子體放電等。隨著頻率的增加,，等離子體強(qiáng)化cvd過(guò)程的作用越明顯,，形成化合物的溫度越低。
真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi),，包括真空離子蒸發(fā),，磁控濺射，mbe分子束外延,，pld激光濺射沉積等很多種,。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
真空鍍膜機(jī)工作的環(huán)境要求：
真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,，因此該設(shè)備要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求,。真空對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室或車(chē)間的溫度,、空氣中的微粒等周?chē)h(huán)境的要求,，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。
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