cvd 制備銥高溫涂層人們之所以對(duì)作涂層材料感興趣是由于這類(lèi)金屬優(yōu)良的性能 ,。銥具有較強(qiáng)的能力和較高的熔點(diǎn)而受到重視,, 是一種較理想的高溫涂層材料 ,。
20 世紀(jì) 60 年代以來(lái),, 航空航天技術(shù)飛速發(fā)展,一些高熔點(diǎn)材料(如石墨碳和鎢鉬鉭鈮等難熔金屬)被大量使用,,但這些材料的一個(gè)共同的致命缺點(diǎn)是能力差,。
60 年代美國(guó)材料實(shí)驗(yàn)室(afml)對(duì)石墨碳的銥保護(hù)涂層進(jìn)行過(guò)大量的研究, 采用了多種成型方法制備銥涂層 ,,其中包括化學(xué)氣相沉積法 ,。雖然沒(méi)有制備出令人滿(mǎn)意的厚銥涂層, 但仍認(rèn)為 cvd 是一種非常有希望且值得進(jìn)一步研究的方法,。
不銹鋼基材真空物---相沉積鍍工藝,,生產(chǎn)“黃金卷”
這種鋼卷以不銹鋼為基材,鍍膜設(shè)備價(jià)格,,通過(guò)pvd真空物---相沉積鍍工藝制造成所需顏色,,該技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、電子,、光學(xué),、機(jī)械、建筑,、輕工,、冶金、材料等領(lǐng)域,,可制備具有耐磨,、耐腐蝕、裝飾,、導(dǎo)電,、絕緣、光導(dǎo),、壓電,、磁性、潤(rùn)滑,、超導(dǎo)等特性的膜層,。日常生活中以手表的外殼、表帶為常見(jiàn),,鍍膜設(shè)備廠,,另外就是家電、裝飾材料等,。
射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積rf-pcvd
在低壓容器的兩極上加高頻電壓則產(chǎn)生射頻放電形成等離子體,,鍍膜設(shè)備,射頻電源通常采用電容耦合或電感耦合方式,,其中又可分為電極式和無(wú)電極式結(jié)構(gòu),,電極式一般采用平板式或熱管式結(jié)構(gòu),手機(jī)納米鍍膜設(shè)備,優(yōu)點(diǎn)是可容納較多工件,,但這種裝置中的分解率遠(yuǎn)低于1%,,即等離子體的內(nèi)能不高。電極式裝置設(shè)在反應(yīng)容器外時(shí),,主要為感應(yīng)線圈,,如圖5,也叫無(wú)極環(huán)形放電,,射頻頻率為13.56mhz,。
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