主要用途:
用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜,、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等,,高真空電子束鍍膜機(jī)公司,批量生產(chǎn)型,。
系統(tǒng)組成:
系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室,、e型電子槍、熱蒸發(fā)電極,、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái),、工作氣路、抽氣系統(tǒng),、真空測(cè)量,、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成�,! �
技術(shù)指標(biāo):
---真空度:≤6.7×10 pa 恢復(fù)真空時(shí)間:從1×10 pa抽至5×10 pa≤20min
系統(tǒng)漏率:6. 7×10-7pa.l/s,;
真空室:真空室1200x9000 x800mm采用u型箱體前開門,,唐山高真空電子束鍍膜機(jī),,后置抽氣系統(tǒng)
e型電子槍:陽極電壓:10kv(2套) 坩堝:水冷式坩堝,24穴設(shè)計(jì),,每個(gè)容量11ml
功率:0-10kw可調(diào) 電阻蒸發(fā)源(可選)
基片尺寸:可放置4″基片一次更換20個(gè)樣品
樣品臺(tái):基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),,轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離350mm加熱溫度 400°c±1°c
氣路系統(tǒng):流量控制器1路
石英晶振膜厚控制儀:監(jiān)測(cè)膜厚顯---圍:0-99μ9999?
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——電子束產(chǎn)品供應(yīng)商,高真空電子束鍍膜機(jī),,我們?yōu)槟鷰硪陨闲畔ⅰ?/p>
以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供,希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助,。
★ 完全封閉的系統(tǒng)框架設(shè)計(jì),,外觀更漂亮,使用更安全,;是一臺(tái)---美學(xué)和用戶操控體驗(yàn)的全新升級(jí)產(chǎn)品,;
★ 前開門真空腔體,方便取放基片,、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護(hù),;
★ 可定制一體化高的精度刻蝕掩膜板;基片臺(tái)公轉(zhuǎn),,轉(zhuǎn)速0~25rpm連續(xù)可調(diào),;平板基底襯底可選擇加熱或水冷,;
★ ---的薄膜均勻性和重復(fù)性,采用進(jìn)口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測(cè)和控制蒸發(fā)速率,、膜厚,;
★ 可沉積金屬au, ag,, al,, ti, pt,, mo,, fe,高真空電子束鍍膜機(jī)報(bào)價(jià),, cr,, ni等、化合物ito等及有機(jī)物材料進(jìn)口電子槍,。
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn),、銷售電子束,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息,。
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備采用完全封閉的系統(tǒng)框架,,結(jié)構(gòu)緊湊,外觀更漂亮,,使用更安全,。6-10kw e型電子槍可選國產(chǎn)或進(jìn)口,可選配離子束清洗及輔助鍍膜功能,。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于科研院所,、高校在片狀、半球狀,、異形基底表面制備金屬/化合物ito等氧化物/導(dǎo)電薄膜/光學(xué)薄膜等,。
|