用于cmp的拋光墊必須具有---的化學穩(wěn)定性(耐腐蝕性),、親水性以及機械力學特性,。拋光墊通常可分為硬質(zhì)和軟質(zhì)(彈性、粘彈性)兩種,。
硬質(zhì)拋光墊可較好地---工件表面的平面度
軟質(zhì)拋光墊可獲得加工變質(zhì)層和表面粗糙度都很小的拋光表面
用于cmp過程的硬質(zhì)拋光墊有各種粗布墊,、纖維織物墊、聚乙烯墊等,,軟質(zhì)拋光墊主要有聚氨酯墊,、細毛氈墊、各種絨毛布墊等,。拋光皮
4.要經(jīng)常清理拋光液中的沉淀物:不允許金屬物掉在拋光液中,,否則將會造成拋光液的浪費進而失效。
五:拋光液檢測之常規(guī)技術(shù)指標分析
1.拋光液ph值檢測指標-般在5. 5- -6. 5
2.拋光液外觀檢測指標為黃色粘稠液體,,可通過目測來完成
3.拋光液粘度檢測指標-般在500- 100cps
4,、拋光液---檢測指標:菌落總數(shù)、大腸菌群,、致病菌,、重金屬.等
5.拋光液其他檢測指標:粒度分布、固含量,、密度,、稀釋比例、性能等
硅片的化學機械拋光過程是以化學反應(yīng)為主的機械拋光過程,,要獲得---的拋光片,,必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到-種平衡。
如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用,,則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑,、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用,,則表面產(chǎn)生高損傷層,。
制備高濃度的氧化拋光液想要優(yōu)異的拋光---,手機---拋光墊的價格,,必須要氧化粉在拋光液體系中,,具備---的懸浮性.分散性,手機---拋光墊怎么用,,否則如果分散性不好,,手機---拋光墊廠商,容易導(dǎo)致有大
顆粒,,或者懸浮性不好,,臺州手機---拋光墊,都會影響拋光的---,,---的話會損壞機器,,因此做好氧化拋光液粉體的懸浮性和分散性需要加入特定的分散劑或者懸浮劑來
解決這個難題,。
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