高純石墨一般指含碳量在99.99%以上的石墨,,在組織結(jié)構(gòu)上可分為粗顆粒結(jié)構(gòu),、細顆粒結(jié)構(gòu)和超細顆粒結(jié)構(gòu)三類,高純石墨大量用于直拉單晶硅爐中,。集成電路的基礎(chǔ)材料主要是硅單晶芯片,,目前硅單晶的成長工藝主要采用直拉(cz)法,其他方法還有磁場直拉法(mcz),、區(qū)域(fz)法以及雙坩堝拉晶法,,島津石墨錐價格,全球電子工業(yè)用直拉單晶硅約占單晶硅總用量的80%,,直拉單晶硅爐中的石墨件是消耗品,,采用高純石墨材料加工成直拉單晶硅爐的加熱系統(tǒng)。2005年中國需要直拉硅單晶爐用石墨約800t,。
高純石墨另一重要用途是加工成各類坩堝,,用于生產(chǎn)、稀有金屬或高純金屬,、非金屬材料,。光譜分析用石墨電極也是一種高純石墨,可用于除碳素以外的所有元素的光譜化學(xué)分析,,光譜分析用石墨電極用擠壓方法成型,。成品的雜質(zhì)元素含量應(yīng)不大于6*10-5在光譜分析中制備標(biāo)準(zhǔn)樣品和用化學(xué)方法捕集雜質(zhì)時需用光譜純炭粉或光譜純石墨粉,島津石墨錐批發(fā),,這兩種高純材料對雜質(zhì)含量的要求都是在6*10-5,;在某些用途方面,,需要含碳量達到99.9995%,總灰分含量小于5*10-6,。高純石墨的成型方法有擠壓成型,、模壓成型及等靜壓成型三種。
對于小于lum的石墨錐材微粒子,,采用光透過法粒度自動測定裝置,。光透過法是在粉體沉降所產(chǎn)生懸浮液濃度的變化過程中,將光束射入,,由粉體的光遮斷量,,間接地測粒度分布。采用間接法,,使操作手續(xù)---簡化,。在微粉測定過程中,問題是粒子的凝聚,。因此,,用光透過法測定微粉粒度時,理想的濃度是做成含石墨錐0.05 %的低濃度懸浮液,,并 加入適量的分散劑使其分散,。這種方法詳述如下:
1、所使用的儀器設(shè)備和材料:
采用skc—2000型顆粒分析儀,,sk型超聲波彌散器,,微型電力攪拌器和3%羧纖維素溶液。
2,、所用石墨錐試液的配制
測定石墨錐乳原料粒度的分散液按下述方法配制:在500ml蒸餾水中,,加少許羧 纖維素粉末,充分?jǐn)嚢枋蛊渫耆芙�,,放�?4h后測定粘度,。將粘度調(diào)整為0.5 ~ lpa.ss, 即制成了分散液,。取3g石墨錐粉末,,島津石墨錐,放入研缽,,加入3%羧纖維素溶液3g,用玻璃棒調(diào)和再加少許蒸餾水調(diào)整石墨錐試液,。然后進行試濃濃度調(diào)整,,調(diào)整時在200ml的燒杯中, 加入100ml分散液,,滴入一滴石墨錐試液,,撹勻后用超聲波彌散器分散3min,,然后將試液倒入樣品試管中。
3,、顆粒粒度測定
測定前按規(guī)定調(diào)整好儀器,,并用分散液進行空白校正。調(diào)整好記錄筆,,將樣品放入離心機,,島津石墨錐,進行離心沉降測定,。以兩次測定結(jié)果的算術(shù)平均值作為測足結(jié)采,。市量累積百分?jǐn)?shù),各粒級兩次測定值之差不得超過6%,,否則必須進行第二次測量,。以二次中不超過誤差標(biāo)準(zhǔn)的兩次測定值計算結(jié)果。整個粒度測定過程是在25 ± 2的恒溫室內(nèi)進行,。
石墨爐原子吸收光譜法是目前測定多種物料中痕量及超痕量無機成分的有效手段,,已廣泛用于-中相關(guān)行業(yè)。其原子化器----石墨錐是一個關(guān)鍵的部件.本著進口儀器配件國產(chǎn)化的精神,,我公司采用進口材料研制石墨錐,,與yy系列石墨管相結(jié)合使用.其各項測試性能指標(biāo)與進口同類型石墨錐基本一致.
1.適用規(guī)格:
yy系列石墨錐用于原子吸收分光譜儀,采用三高石墨經(jīng)過特殊工藝處理后車制而成.
2.使用方法:
按照儀器規(guī)定程序安裝好石墨錐,,安裝務(wù)必---,。
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