對(duì)于小于lum的石墨錐材微粒子,,采用光透過(guò)法粒度自動(dòng)測(cè)定裝置。光透過(guò)法是在粉體沉降所產(chǎn)生懸浮液濃度的變化過(guò)程中,,將光束射入,,由粉體的光遮斷量,間接地測(cè)粒度分布,。采用間接法,,使操作手續(xù)---簡(jiǎn)化。在微粉測(cè)定過(guò)程中,,問(wèn)題是粒子的凝聚,。因此,用光透過(guò)法測(cè)定微粉粒度時(shí),,理想的濃度是做成含石墨錐0.05 %的低濃度懸浮液,,并 加入適量的分散劑使其分散。這種方法詳述如下:
1、所使用的儀器設(shè)備和材料:
采用skc—2000型顆粒分析儀,,島津石墨錐多少錢,,sk型超聲波彌散器,微型電力攪拌器和3%羧纖維素溶液,。
2,、所用石墨錐試液的配制
測(cè)定石墨錐乳原料粒度的分散液按下述方法配制:在500ml蒸餾水中,加少許羧 纖維素粉末,,島津石墨錐價(jià)格,充分?jǐn)嚢枋蛊渫耆芙�,,放�?4h后測(cè)定粘度,。將粘度調(diào)整為0.5 ~ lpa.ss, 即制成了分散液,。取3g石墨錐粉末,,放入研缽,加入3%羧纖維素溶液3g,,用玻璃棒調(diào)和再加少許蒸餾水調(diào)整石墨錐試液,。然后進(jìn)行試濃濃度調(diào)整,調(diào)整時(shí)在200ml的燒杯中,, 加入100ml分散液,,滴入一滴石墨錐試液,撹勻后用超聲波彌散器分散3min,,然后將試液倒入樣品試管中,。
3、顆粒粒度測(cè)定
測(cè)定前按規(guī)定調(diào)整好儀器,,并用分散液進(jìn)行空白校正,。調(diào)整好記錄筆,將樣品放入離心機(jī),,進(jìn)行離心沉降測(cè)定,。以兩次測(cè)定結(jié)果的算術(shù)平均值作為測(cè)足結(jié)采。市量累積百分?jǐn)?shù),,各粒級(jí)兩次測(cè)定值之差不得超過(guò)6%,,否則必須進(jìn)行第二次測(cè)量。以二次中不超過(guò)誤差標(biāo)準(zhǔn)的兩次測(cè)定值計(jì)算結(jié)果,。整個(gè)粒度測(cè)定過(guò)程是在25 ± 2的恒溫室內(nèi)進(jìn)行,。
高純石墨一般指含碳量在99.99%以上的石墨,在組織結(jié)構(gòu)上可分為粗顆粒結(jié)構(gòu),、細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)和超細(xì)顆粒結(jié)構(gòu)三類,,高純石墨大量用于直拉單晶硅爐中。集成電路的基礎(chǔ)材料主要是硅單晶芯片,,目前硅單晶的成長(zhǎng)工藝主要采用直拉(cz)法,,其他方法還有磁場(chǎng)直拉法(mcz),、區(qū)域(fz)法以及雙坩堝拉晶法,島津石墨錐,,電子工業(yè)用直拉單晶硅約占單晶硅總用量的80%,,直拉單晶硅爐中的石墨件是消耗品,采用高純石墨材料加工成直拉單晶硅爐的加熱系統(tǒng),。2005年中國(guó)需要直拉硅單晶爐用石墨約800t,。
高純石墨另一重要用途是加工成各類?ài)釄澹糜谏a(chǎn),、稀有金屬或高純金屬,、非金屬材料。光譜分析用石墨電極也是一種高純石墨,,可用于除碳素以外的所有元素的光譜化學(xué)分析,,島津石墨錐,光譜分析用石墨電極用擠壓方法成型,。成品的雜質(zhì)元素含量應(yīng)不大于6*10-5在光譜分析中制備標(biāo)準(zhǔn)樣品和用化學(xué)方法捕集雜質(zhì)時(shí)需用光譜純炭粉或光譜純石墨粉,,這兩種高純材料對(duì)雜質(zhì)含量的要求都是在6*10-5;在某些用途方面,,需要含碳量達(dá)到99.9995%,,總灰分含量小于5*10-6。高純石墨的成型方法有擠壓成型,、模壓成型及等靜壓成型三種,。
1,、糊料的粘結(jié)劑用量過(guò)大或裝料溫度較高,,糊料壓出后彈性回脹較大,應(yīng)力消失比較慢,,均可能導(dǎo)致裂紋,。裝料溫度較高時(shí)煙氣排除不凈,煙氣夾在糊料中,,也易產(chǎn)生裂紋,。
2、糊料的粘結(jié)劑用量過(guò)小或裝料溫度太低,,糊料的塑性較差,,糊料之間粘結(jié)力小,因而不易壓實(shí),,也易于產(chǎn)生裂紋,。
3、擠壓嘴子及壓料室的溫度過(guò)高,緊靠擠壓嘴子及壓料室內(nèi)壁的糊料受到過(guò)分的加熱,,因此與壓料室中心部分的糊料溫度相差較大,,受壓后這兩種料擠出速度不一樣,壓出后的產(chǎn)品因表面與中心部分回脹系數(shù)不一致,,這也容易產(chǎn)生裂紋,。反過(guò)來(lái)說(shuō),擠壓嘴子和壓料室的加熱溫度較低,,而中心部位糊料的溫度較高也會(huì)有一樣的后果,。
4、涼料時(shí)糊料涼得不均勻,,有時(shí)甚至把已冷成硬塊的糊料也加入壓料室內(nèi);而壓料室的加熱不---在短時(shí)間內(nèi)使糊料溫度達(dá)到均勻,,在這種情況下擠壓出來(lái)往往也是造成石墨板表面裂紋的原因。
5,、石墨錐離開擠壓嘴子后應(yīng)利用半圓形(對(duì)圓形截面石墨板)的或水平板(對(duì)方形截面石墨板)的接受臺(tái)托住。如果接受臺(tái)位置不當(dāng),,石墨板壓出后彎曲下垂過(guò)大也會(huì)造成產(chǎn)品的橫裂,。
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