脈沖激光沉積原理

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脈沖激光沉積原理：在真空環(huán)境下利用脈沖激光對靶材表面進行轟擊，利用激光產(chǎn)生的局域熱量將靶材物質(zhì)轟擊出來,，再沉積在不同的襯底上,，從而形成薄膜。

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕pulsed laser ablation，pla,，是一種利用激光對物體進行轟擊,，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段,。

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