目前全球光刻膠市場(chǎng)基本被日本和美業(yè)所壟斷,。光刻膠屬于高技術(shù)壁壘材料,,生產(chǎn)工藝復(fù)雜,純度要求高,,需要長(zhǎng)期的技術(shù)積累,。日本的jsr、東京應(yīng)化,、信越化學(xué)及富士電子四家企業(yè)占據(jù)了全球70%以上的市場(chǎng)份額,,處于市場(chǎng)壟斷-,。
光刻膠市場(chǎng)需求逐年增加,2018年全球半導(dǎo)體光刻膠銷(xiāo)售額12.97億美元,。隨著下游應(yīng)用功率半導(dǎo)體、傳感器,、存儲(chǔ)器等需求擴(kuò)大,,玻璃光刻膠哪里有,未來(lái)光刻膠市場(chǎng)將持續(xù)擴(kuò)大,。
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光刻膠是一大類(lèi)具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,,是轉(zhuǎn)移紫外-或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist,,又翻譯為抗蝕劑,、光阻等。廣泛應(yīng)用于集成電路(ic),,封裝(packaging),,微機(jī)電系統(tǒng)(mems),光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics),,平板顯示器(led,,lcd,oled),,電子光刻膠哪里有,,太陽(yáng)能光伏(solar pv)等領(lǐng)域。
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根據(jù)化學(xué)反應(yīng)機(jī)理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負(fù)性膠和正性膠,。對(duì)某些溶劑可溶,,但經(jīng)-后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠;反之,,對(duì)某些溶劑不可溶,經(jīng)-后變成可溶的為正性膠,。 從需求端來(lái)看,,光刻膠哪里有,光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠,、面板光刻膠和pcb光刻膠,。其中,半導(dǎo)體光刻膠的技術(shù)壁壘較高,。
光刻膠產(chǎn)品種類(lèi)多,、-性強(qiáng),是典型的技術(shù)密集型行業(yè),。不同用途的光刻膠-光源,、反應(yīng)機(jī)理、制造工藝,、成膜特性,、加工圖形線路的精度等性能要求不同,導(dǎo)致對(duì)于材料的溶解性,、耐蝕刻性,、耐熱性等要求不同。因此每一類(lèi)光刻膠使用的原料在化學(xué)結(jié)構(gòu),、性能上都比較特殊,,要求使用不同品質(zhì)等級(jí)的光刻膠-化學(xué)品。
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