光刻膠：半導(dǎo)體技術(shù)壁壘的材料之一

光刻是整個(gè)集成電路制造過(guò)程中耗時(shí)長(zhǎng),、難度大的工藝,，耗時(shí)占ic制造50%左右，成本約占ic生產(chǎn)成本的1/3。光刻膠是光刻過(guò)程重要的耗材,，光刻膠的對(duì)光刻工藝有著重要影響,。

賽米萊德——生產(chǎn)、銷(xiāo)售光刻膠,，我們公司堅(jiān)持用戶(hù)為---,，想用戶(hù)之所想，光阻劑光刻膠公司,，急用戶(hù)之所急,，以誠(chéng)為本，講求信譽(yù),，以產(chǎn)品求發(fā)展,，以求生存，我們熱誠(chéng)地歡迎各位同仁合作共創(chuàng),。

光刻膠的參數(shù)

賽米萊德生產(chǎn),、銷(xiāo)售光刻膠，我們?yōu)槟�分析該產(chǎn)品的以下信息,。

分辨率

分辨率英文名：resolution,。區(qū)別硅片表---鄰圖形特征的能力，玻璃光刻膠公司,，一般用關(guān)鍵尺寸cd,，critical dimension來(lái)衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小,，光刻膠的分辨率越好,。

對(duì)比度

對(duì)比度contrast指光刻膠從---區(qū)到非---區(qū)過(guò)渡的陡度。對(duì)比度越好,，形成圖形的側(cè)壁越陡峭,，分辨率越好。

敏感度

敏感度sensitivity光刻膠上產(chǎn)生一個(gè)---的圖形所需一定波長(zhǎng)光的能量值或---量,。單位：毫焦/平方厘米或mj/cm2,。光刻膠的敏感性對(duì)于波長(zhǎng)更短的深紫外光duv、極深紫外光euv等尤為重要,。

粘滯性黏度

粘滯性/黏度viscosity是衡量光刻膠流動(dòng)特性的參數(shù),。粘滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加；高的粘滯性會(huì)產(chǎn)生厚的光刻膠,；越小的粘滯性,，就有越均勻的光刻膠厚度。光刻膠的比重sg,，specific gravity是衡量光刻膠的密度的指標(biāo),。它與光刻膠中的固體含量有關(guān),。較大的比重意味著光刻膠中含有更多的固體，粘滯性更高,、流動(dòng)性更差,。粘度的單位：泊poise,，光刻膠一般用厘泊cps,，厘泊為1%泊來(lái)度量。百分泊即厘泊為粘滯率,；運(yùn)動(dòng)粘滯率定義為：運(yùn)動(dòng)粘滯率=粘滯率/比重,。 單位：百分斯托克斯cs=cps/sg。

粘附性

粘附性adherence表征光刻膠粘著于襯底的強(qiáng)度,。光刻膠的粘附性不足會(huì)導(dǎo)致硅片表面的圖形變形,。光刻膠的粘附性必須經(jīng)受住后續(xù)工藝刻蝕、離子注入等,。

抗蝕性

抗蝕性anti-etching光刻膠必須保持它的粘附性,，在后續(xù)的刻蝕工序中保護(hù)襯底表面。耐熱穩(wěn)定性,、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力,。

表面張力

液體---表面分子拉向液體主體內(nèi)的分子間吸引力。光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力surface tension,，使光刻膠具有---的流動(dòng)性和覆蓋,。