反應(yīng)濺射就是在反應(yīng)氣體環(huán)境中鍍膜,，濺射過程中靶材會與濺射氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。反應(yīng)濺射一般沉積不導(dǎo)電的膜層,，例如：snox,，znox，siox，深圳礦工頭燈反光杯,，sinx等,。在反應(yīng)濺射系統(tǒng)中，一般都加入ar加速反應(yīng)速度,，即提高濺射速率,。在反應(yīng)濺射氣氛中，加入工作氣體越多,，濺射速率越高,，當(dāng)加入的工作氣體過多時，注塑礦工頭燈反光杯,，反應(yīng)氣體來不急將所有濺射出來的原子反應(yīng)掉,，膜層內(nèi)就會含有金屬，我們把這種狀態(tài)叫翻轉(zhuǎn),。在反應(yīng)濺射過程中,，無論翻轉(zhuǎn)與正常狀態(tài)，靶的濺射速率都沒有不反應(yīng)濺射速率高,。

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真空鍍膜之多弧離子鍍 ：

部分離子對陰極的轟擊又使陰極斑點(diǎn)局部快速蒸發(fā)并在空間迅速離化,，使這些陰極弧斑點(diǎn)變成微小蒸發(fā)源，這些微小蒸發(fā)源在磁場和屏蔽絕緣的作用下束縛在陰極靶面做無規(guī)則運(yùn)動,，從而形成大面積均勻的蒸發(fā)源,，噴發(fā)出電子、離子,、熔融的金屬材料和原子,。大部分是離子和熔融粒子，在偏壓作用下,，離子流在基體上凝聚成金屬,、合金或化合物薄膜。