真空鍍膜技能一般分為兩大類，即物---相堆積pvd技能和化學(xué)氣相堆積cvd技能,。

物---相堆積技能具有膜/基結(jié)合力好,、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好,、應(yīng)用的靶材廣泛,、濺射規(guī)模寬、可堆積厚膜,、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn),。

化學(xué)氣相堆積技能是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供應(yīng)基體，憑借氣相作用或基體外表上的化學(xué)反應(yīng),，在基體上制出金屬或化合物薄膜的辦法,，主要包含常壓化學(xué)氣相堆積、低壓化學(xué)氣相堆積和兼有cvd和pvd兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相堆積等,。

在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有較為重要的---,。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器,、運(yùn)算器,、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜,。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜,。磁帶、磁盤,、半導(dǎo)體激光器,，電路板鍍膜加工技術(shù)，約瑟夫遜器件,、電荷耦合器件( ccd )也都甬道各種薄膜,。

在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻,，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻,，在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅,、二氧化鈦等可以制造電容器,，蒸發(fā)硒可以得到靜電復(fù)印機(jī)用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等,。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導(dǎo)膜和慣性約束巨變反應(yīng)用的微珠鍍層,。