離子鍍技術(shù)早由d. m. mattox于1963年提出并付諸實(shí)踐的,。其原理是在真空條件下,,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí),,處理鍍鈦選,,把蒸發(fā)物或其他反應(yīng)物鍍?cè)诨系墓に嚒?/p>
根據(jù)膜層粒子的獲得方式,離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍,,其中蒸發(fā)型離子鍍根據(jù)放電原理不同又可分為直流二級(jí)型離子鍍,、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等,。
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