公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,，蘇打掩膜版，以及菲林版,。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想,、草圖，定制版圖,，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù),！

掩膜版的制作方法

提供一種掩膜版，包括對盒設(shè)置的第i一基板和第二基板,；所述第i一基板下方設(shè)有陣列像素單元,，每個所述像素單元包括i 一個薄膜晶體管 tft ；所述第二基板上方設(shè)有透明導電層,；所述透明導電層和所述陣列像素單元之間填充液晶,；所述透明導電層和所述陣列像素單元表面分別設(shè)有配向膜層，用于使液晶分子沿 所述配向膜層表面的取向槽排列,； 所述第i一基板上方設(shè)有第i一偏光器件,；所述第二基板下方設(shè)有第二偏光器件,；還包括驅(qū)動單元，用于向所述陣列像素單元施加等級電壓,，以控制所述掩模版的 入射光通過強度,。

目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低,，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘,，所以光刻掩膜版都是由-生產(chǎn)商進行生產(chǎn)。

　　據(jù)統(tǒng)計：根據(jù) semi,， 目前全球半導體光刻掩膜版市場規(guī)模近 34 億美元,，即 210 億人民i幣。未來光刻掩膜版市場增長速度將在 5%左右,。2015年我國光掩膜版需求市場規(guī)模為56.7億元,，2016年國內(nèi)需求市場規(guī)模增長至59.5億元，規(guī)模較上年同期增長4.9%,。

　　從我國光掩膜版的需求量來看,，行業(yè)需求穩(wěn)定增長，2016年需求量達到了7.98萬平方米,。