掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還廣泛的應(yīng)用與像lcd,，pcb等方面,。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版,，凸版,、液體凸版。主要分兩個組成部分,，基板和不透光材料,。基板通常是高純度,，低反射率,，掩膜版，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃,。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小,，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害,。

在刻畫時，采用步進機刻畫(stepper),，其中有電子束和激光之分,，激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫，邊緣起點5mm,，與電子束相比,，其弧形更逼真，線寬與間距更小,。

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,，蘇打掩膜版，以及菲林版,。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想,、草圖，定制版圖,，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù),！

掩膜的用法

1 提取感興趣區(qū)：用預(yù)先制作的感興趣區(qū)掩膜與待處理圖像相乘，得到感興趣區(qū)圖像,，感興趣區(qū)內(nèi)圖像值保持不變,，而區(qū)外圖像值都為0；

2 屏蔽作用：用掩膜對圖像上某些區(qū)域作屏蔽,，使其不參加處理或不參加處理參數(shù)的計算,，或僅對屏蔽區(qū)作處理或統(tǒng)計；

3 結(jié)構(gòu)特征提�,。河孟嗨菩宰兞炕驁D像匹配方法檢測和提取圖像中與掩膜相似的結(jié)構(gòu)特征,；

4 特殊形狀圖像的制作。