光刻英語：photolithography是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,，該步驟利用---和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上,。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,，還可以是其他金屬層、介質層,，例如玻璃,、sos中的藍寶石。

集成電路英語：integrated circuit,，縮寫：ic,；德語：integrierter schaltkreis、或稱微電路microcircuit,、微芯片microchip,、晶片/芯片chip在電子學中是一種把電路主要包括半導體設備，也包括被動組件等小型化的方式,，并時常制造在半導體晶圓表面上,。前述將電路制造在半導體芯片表面上的集成電路又稱薄膜thin-film集成電路,。另有一種厚膜thick-film集成電路hybrid integrated circuit是由獨立半導體設備和被動組件，集成到襯底或線路板所構成的小型化電路,。

公司產品包括石英掩膜版,，蘇打掩膜版，以及菲林版,。蘇州制版根據客戶的構想,、草圖，定制版圖,，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務,！

在刻畫時，采用步進機刻畫(stepper),，其中有電子束和激光之分,，激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫，邊緣起點5mm,，與電子束相比，其弧形更逼真,，線寬與間距更小,。光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有稱為中間掩膜,，reticle作為單位譯為光柵),，用步進機重復將比例縮小到master maks上，應用到實際---中的為工作掩膜(working mask),，工作掩膜由master mask復i制過來,。