pvd是英文physical vapordeition物---相沉積的縮寫,，是指在真空---鈦、金,、石墨,、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射,、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),，在基材上沉積形成不同顏色和-的薄膜。pvd膜層賦予產(chǎn)品表面金屬-和豐富的顏色，并---耐磨,、耐腐蝕性,，---。已經(jīng)廣泛應(yīng)用于表殼,、表帶,、手機(jī)殼、建筑五金,、模具刀具等產(chǎn)品,。

離子鍍

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離,，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下,，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法�,？蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離,，克服了濺射鍍膜為了持續(xù)放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對(duì)襯底和沉積薄膜表面的轟擊-了薄膜的附著力和,，是一種結(jié)合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢(shì)的pvd技術(shù),。

根據(jù)離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源,、射頻離子源,、霍爾離子源、冷陰極離子源,、電子回旋離子源等,。