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通過(guò)金屬化過(guò)程,，在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層,。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠,。這層光阻劑在---一般是紫外線后可以被特定溶液顯影液溶解,。使特定的光波穿過(guò)光掩膜照射在光刻膠上,，可以對(duì)光刻膠進(jìn)行選擇性照射---,。然后使用前面提到的顯影液,，溶解掉被照射的區(qū)域，這樣,，光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上,。通常還將通過(guò)烘干措施，---剩余部分光刻膠的一些性質(zhì),。