pld是將脈沖激光透過合成石英窗導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上,，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),，激光脈沖沉積設(shè)備廠家，然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜,。pld方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料,。
期望大家在選購脈沖激光沉積時多一份細(xì)心，少一份浮躁,，不要錯過細(xì)節(jié)疑問,。想要了解更多脈沖激光沉積的相關(guān)，歡迎撥打圖片上的熱線電話�,。,�,！
脈沖激光沉積，激光脈沖沉積設(shè)備公司,，就是將激光-于靶材上一個較小的面積,，利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運動,，進(jìn)而在基底上沉積,，從而形成薄膜的一種方式。 在眾多的薄膜制備方法中,，脈沖激光沉積技術(shù)的應(yīng)用較為廣泛,，可用來制備金屬、半導(dǎo)體,、氧化物,、氮化物、碳化物,、硼化物,、硅化物、-物及-物等各種物質(zhì)薄膜,，甚至還用來制備一些難以合成的材料膜,，如金剛石、立方氮化物膜等,。
想要了解更多沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司的相關(guān)信息,，歡迎撥打圖片上的熱線電話！
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——脈沖激光沉積供應(yīng)商,，激光脈沖沉積設(shè)備,，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?/p>
【設(shè)備主要用途】
pld450a型脈沖激光沉積設(shè)備采用pld脈沖激光沉積技術(shù)，用于制備高溫超導(dǎo)薄膜,、半導(dǎo)體膜,、鐵電薄膜、硬質(zhì)薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié),，也可用于制備氮,、碳、硅化合物及各種有機—無機復(fù)合材料薄膜及金剛石薄膜等,。
【設(shè)備優(yōu)點】
設(shè)備全程采用一鍵式操作抽氣,，激光脈沖沉積設(shè)備，關(guān)機,，程序自動化定時操作,。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開啟。
【設(shè)備主要組成】
設(shè)備由沉積腔室單室球形或圓筒形,、樣品加熱轉(zhuǎn)臺,、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗,、電源控制系統(tǒng),、激光束掃描系統(tǒng)、計算機控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn),、脈沖準(zhǔn)分子激光器等組成
|
登錄后臺
滇公網(wǎng)安備 53011202000392