脈沖激光沉積系統(tǒng)的配置介紹

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn),、銷售脈沖激光沉積,，我們?yōu)槟�分析該產(chǎn)品的以下信息。

1.靶: 數(shù)量6個，大小1-2英寸,，被激光照射時可自動旋轉(zhuǎn),，靶的選擇可通過步進(jìn)電機(jī)控制;

2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸,，加熱溫度可達(dá)1200攝氏度,，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉(zhuǎn),，工作環(huán)境的壓力可達(dá)300mtorr;

3.基板加熱電源,，高到1200度;

4.真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光,，本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質(zhì),，內(nèi)表面電解拋光，脈沖激光沉積裝置多少錢,，本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機(jī)械泵;

7.閥門: 采用真空擋板閥;

8.真空檢測:真空計;

9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;

10.薄膜生長監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分rheed;

11.監(jiān)控系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定,，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，靶的更換等;

12.各種電流導(dǎo)入及測溫端子;

13.其它各種構(gòu)造:各種真空位移臺,，磁力傳輸桿,，真空法蘭，真空密封墊圈,，真空用波紋管等;

脈沖激光沉積機(jī)制

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pld的系統(tǒng)設(shè)備簡單,，相反，它的原理卻是非常復(fù)雜的物理現(xiàn)象,。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時,，激光與物質(zhì)之間的所有物理相互作用，亦包括等離子羽狀物的形成,，其后已熔化的物質(zhì)通過等離子羽狀物到達(dá)已加熱的基片表面的轉(zhuǎn)移,，及膜的生成過程。所以,，pld一般可以分為以下四個階段：

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質(zhì)的動態(tài)

3. 熔化物質(zhì)在基片的沉積

4. 薄膜在基片表面的成核nucleation與生成,。